アルミナ(Al2O3)プリント基板
アルミナ含有量96%~99%
熱伝導率:24~30 W/m・K
優れた誘電特性
高出力、高周波、および航空宇宙用途向けに、アルミナ(Al2O3)および窒化アルミニウム(AlN)基板を用いた優れた熱管理を実現します。

| 財産 | FR-4標準/高TG | アルミニウム金属芯 | ロジャース高周波 | セラミックアルミナ/AlN |
|---|---|---|---|---|
| 熱伝導率 | 0.25 W/m·K | 24~30 W/m・K | 150~170 W/m・K | 200W/m・K以上 |
| 誘電率 | 4.2~4.6 | 9.0 - 10.0 | 8.5 - 9.0 | 約40 |
| 動作温度 | 最高170℃ | 最高800℃ | 最高800℃ | 最高1000℃ |
| CTE(Z軸) | 50~70ppm | 6~8 ppm | 4~5 ppm | 3.7 ppm |
| 耐久性 | ||||
| コストレベル | ||||
| 最適な用途 | 汎用電子機器 | 高出力LED、自動車用 | RF、5G、レーダーシステム | 航空宇宙、高出力モジュール |
高性能電子機器において、フレキシブル基板とリジッド基板をシームレスに統合することで、コネクタを不要にし、軽量化を実現し、スペースを最大限に活用する。
スペース、重量、動きが重要な動的用途向けに設計された、高品質のフレキシブル基板およびリジッドフレキシブル基板。
業界最高水準の精度で、片面基板から複雑な56層多層基板まで、最先端の剛性基板製造サービスを提供します。
専門的なリバースエンジニアリングサービスにより、物理的なプリント基板サンプルを完全なCADファイル、回路図、部品表に変換し、100%の精度を保証します。
材質:セラミック基板;層数:1L;
仕上げ板の厚さ:2.4mm;
最小線幅/間隔:10/8mil
最小穴径:0.6mm、表面仕上げ:ENIG
材質:FR-4、層数:4層
完成後の板厚:1.6mm
配線幅/配線間隔:6/5mil;
最小穴径:0.2mm
表面仕上げ:OSP
材質:FR-4、層数:4層
完成板厚:2.0mm
配線幅/配線間隔:6/8ミル
最小穴径:0.3mm
表面仕上げ:浸漬錫
材質:FR-4;層数:4層;
仕上げ板の厚さ:1.2mm;
最小線幅/間隔:4/3mil
最小穴径:0.15mm、表面仕上げ:ENIG
材質:FR-4;層数:4層;
仕上げ板の厚さ:1.2mm;
最小線幅/間隔:4/3mil
最小穴径:0.15mm、表面仕上げ:ENIG
一般的なセラミック回路基板厚膜プロセスを用いたこの技術は、多層配線が容易、低コスト、耐高温性、耐腐食性、優れた機械的強度などの利点を持つ先進的なプリント基板製造技術であり、電子機器、通信機器、航空宇宙機器などの分野で幅広く利用されています。
お客様のニーズやプロセスに応じて、当社工場ではセラミック回路基板を製造できます。従来のプロセスでは2~8層、低温同時焼成セラミック(LTCC)や高温同時焼成セラミック(HTCC)を使用すれば10~20層、あるいはそれ以上の層数にも対応可能です。実際の用途においては、お客様のご要望やニーズに合わせて最適なプロセスを選択いたします。
当社の製品はすべてIPC規格に準拠しており、ISO 14001、ISO 9001、CE、ROHSなどの認証を取得しています。当社の製品は、通信機器、医療機器、産業制御機器、電源装置、家電製品、航空宇宙、自動車産業など、幅広い分野で使用されています。
ガーバーファイルがないと製造できません。ガーバーファイルに基づいて製造いたします。または、サンプルをお持ちの場合は、そのサンプルを基に複製することも可能です。その場合は、3~5個のサンプルを弊社までお送りいただければ、サンプル作成の価格を評価させていただきます。
弊社が対応可能な最短納期は12時間です。迅速な見積もりは1時間、迅速な設計は4時間で対応可能です。納期はお客様の製品要件と数量によって異なります。また、見積もりにはリードタイムも含まれます。